分步重復納米壓印光刻機

1. 簡介

我們的EVG770分步重復納米壓印光刻機是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從蕞大50 mm x 50 mm的小模具到蕞大300 mm基板尺寸的大面積均勻地復制模板。結合金剛石車削或直接寫入方法，分步重復刻印通常用于有效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。

2. 主要應用

主要使用連續重復的納米壓印光刻技術，可進行有效的母版制作（例如：微鏡頭制作）。

3. 特色

EVG770的主要功能包括精確的對準功能，全緬的過程控制以及可滿足各種設備和應用需求的靈活性。

4. 參數特征

1）高效的晶圓級光學微透鏡主制造，直至SmartNIL的納米結構®

2）簡單實施不同類型的主機

3）可變抗蝕劑分配模式

4）分配，壓印和脫模過程中的實時圖像

5）用于壓印和脫模的原位力控制

6）可選的光學楔形誤差補償

7）可選的自動盒帶間處理

5. EVG770技術數據

1）晶圓直徑（基板尺寸）：100至300毫米

2）解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）

3）支持的工藝：軟UV-NIL納米壓印

4）曝光源：大功率LED（i線）> 100 mW /cm²

5）對準：頂面顯微鏡，用于實時重疊校準≤±500 nm和精細校準≤±300 nm

6）弟一個印刷模具到模具的放置精度：≤1微米

7）有效印記區域：長達50 x 50毫米

8）自動分離：支持

9）預處理功能：涂層：液滴分配（可選）

6. 納米壓印工藝結果

圖1  微鏡頭

圖2  納米壓印結果（100納米分辨率）